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    光学镀膜工艺流程

    文章作者:振华真空
    阅读:97
    发布时间:2024-11-05
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        光学镀膜工艺流程是一个复杂而精细的过程,旨在通过在光学零件表面镀上一层或多层金属(或介质)薄膜,以改变其光学性能。以下是光学镀膜工艺流程的详细步骤:


        一、前期准备

    材料准备:选用高质量的光学镜片作为基材,确保镜片表面平整、无缺陷。

    设备准备:准备真空镀膜机及相关设备,如真空泵、蒸发源、溅射源、膜厚监控仪等。

    环境准备:确保镀膜室内清洁无尘,避免污染镜片表面。

        二、镜片处理

    打磨:对光学镜片进行精细打磨,去除表面微小凹陷和杂质,提高表面光洁度。

    清洗:使用特殊的清洗液和超声波清洗设备对镜片进行清洗,去除油污、手印、灰尘等污染物。清洗过程通常包括有机溶剂清洗、水基清洗剂清洗、纯水漂洗和IPA脱水等步骤。

        三、镀膜过程

    真空加热:将镜片放入真空室内,通过通电加热的方式使镜片表面吸附的气体蒸发并被泵走,形成高真空环境。

    金属膜沉积:根据镀膜需求,选择合适的膜料(如金属、合金、氧化物等),并通过蒸发或溅射的方式将其沉积在镜片表面。蒸发过程通常涉及加热蒸发源,使膜料蒸发成气态分子;溅射过程则利用高能粒子轰击靶材,使靶材原子或分子被溅射出来。

    膜厚监控:使用膜厚监控仪对镀膜过程进行实时监控,确保薄膜的厚度和均匀性满足要求。根据需要,可以调整蒸发源或溅射源的参数,以优化镀膜效果。

        四、后期处理

    冷却:镀膜完成后,关闭蒸发源或溅射源,让真空室内自然冷却至室温。然后将镜片从真空室中取出,放置于恒温房中进一步冷却至室温。

    检测与测试:对镀膜后的镜片进行光学性能测试,如反射率、透过率、激光损伤阈值等,确保镀膜质量符合设计要求。

        五、特殊镀膜技术

    在光学镀膜工艺流程中,还有一些特殊的镀膜技术,如离子辅助沉积(IAD)、磁控溅射等。这些技术能够进一步提高镀膜的质量和性能,如提高薄膜的致密度、附着力、光学性能等。


        综上所述,光学镀膜工艺流程是一个精细而复杂的过程,需要严格控制各个环节的参数和条件,以确保镀膜质量和性能的稳定性和可靠性。


    ——本文由光学镀膜设备厂家振华真空发布

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