1、实际操作易控。 表层的镀膜全过程，只需维持工作中气体压强 额定功率等磁控溅射标准比较平稳 就能得到相对稳定的沉淀速度。

2、沉积速率高。在沉积绝大多数的合金塑料薄膜，尤其是沉积高溶点的金属材料和金属氢化物塑料薄膜时，如磁控溅射钨、铝塑料薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2塑料薄膜，具备很高的沉积率。

3、膜的坚固性好。磁控测射塑料薄膜与基钢板拥有非常好的粘合力，冲击韧性也获得了改进

4、涂膜高密度、匀称。磁控溅射的塑料薄膜集聚相对密度普遍提高了。从显微照片看，磁控溅射的溥膜表层外部经济外貌较为精美细腻，并且十分匀称。

5、磁控测射镀膜机的塑料薄膜均具备良好的特性。如磁控测射的陶瓷膜一般 能获取较好的光电特性，电力学特性及一些独特特性.

6、便于机构批量生产。磁控源能够按照需要开展扩张，因而大规模表层的镀膜是很容易完成的。

7、加工工艺环境保护。传统式的湿式电镀工艺会形成废水、废料、有机废气，对自然环境产生明显的环境污染。不发生空气污染、生产制造高效率的磁控测射表层的镀膜规律可不错处理这一难点。