热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术采用热丝弧枪发射弧光等离子体简称热丝弧弧光PECVD 技术。该技术和热丝弧枪离子镀膜技术近似，其区别在于热丝弧枪离子镀获得固态薄膜是利用热丝弧枪发射的弧光电子流将坩埚中的金属加热蒸发出来，而热丝弧弧光 PECVD是通入反应气体，如沉金刚石膜通人的反应气是 CH4和 H2。依靠热丝弧枪发射的高密度弧光放电流将反应气体电离子、激发，获得包括气体离子、原子离子、活性基团等多种活性粒子。

    热丝弧PECVD 装置中仍然在镀膜室外安装上下两个电磁线圈，使高密度的电子流在向阳极运动的过程中旋转起来，增加电子流与反应气体碰撞电离概率。电磁线圈还可以使其汇聚成弧柱，以提高整个沉积室的等离子体密度。在弧光等离子体中，这些活性粒子的密度大，更容易在工件上沉积金刚石膜等膜层。

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