(1)在沉积温度下，反应物必须有足够高的蒸气压。若反应物在室温下全部为气态，则沉积装置就比较简单，若反应物在室温下挥发很小，则需要加热使其挥发，有时还需要用运载气体将其带人反应室。

    (2)反应生成物中，除了所需要的沉积物为固态之外，其余物质都必须是气态。

    (3)沉积薄膜的蒸气压应足够低，以保证在沉积反应过程中，沉积的薄膜能够牢固地附着在具有一定沉积温度的基片上。基片材料在沉积温度下的蒸气压也必须足够低。

沉积反应物主要分为以下三种状态:

    (1)气态。在室温条件下为气态的源物质，如甲烷、二氧化碳、氨气、氯气等，它们最利于化学气相沉积，流量调节方便。

    (2) 液态。一些反应物质在室温或稍高的温度下，有较高的蒸气压，如 TiCI4、SiCl4、CH3SiCl3等，可用载气(如H2、N2、Ar)流过液体表面或在液体内部鼓泡，然后携带该物质的饱和蒸气进入工作室。

    (3)固态。在没有合适的气态源或液态源的情况下，只能采用固态原料。有些元素或其化合物在数百度时有可观的蒸气压，如 TaCl5、Nbcl5、ZrCl4等，可利用载气将其携带进入工作室沉积成膜层。

更为普遍的情况式通过一定的气体与源物质发生气-固或气-液反应，形成适当的气态组分向工作室输送。如用HCl气体和金属Ga反应形成气态组分GaCl，以GaCl形式向工作室输送。

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