该镀膜线要用于单面或双面沉积透明导电薄膜金属氧化物及单质金属膜层。采用模块化设计，方便日后扩展升级；镀膜线的镀膜室长期保持高真空状态，杂气少，膜层纯净度高，折射率好；工艺参数可追溯，生产过程实现全程监控，方便追踪生产不良；设备自动化程度高，配合机械手使用可衔接上下工序，实现连续稳定的流水线作业；设备产量高达万片/小时，生产节拍快，产量大，实现有效降本增效。
主要应用于晶硅电池、碲化镉电池、钙钛矿电池、建筑玻璃、TCO导电玻璃等产品。
01.产能:8000-12000片/小时
02.设计:定制化，降本增效，保密专属
03.优化:提供更大膜宽，稳定等离子体场域， 增加膜层均匀度
04.工艺:可承载多台阴极，可供不同折射率膜层叠加，达成电池受光面减反功能
05.靶材:旋转靶材使用率高
06.稳定:配合不同靶材与阴极做到稳定电控的PID回馈，维持靶材使用期间膜厚的均一性
备注：设备可根据客户要求定制。
