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2023-06
离子束辅助沉积及低能离子源
1、离子束辅助沉积 ，主要采用低能离子束，对材料表面改性时发挥助力作用。
（1）离子辅助沉积的特点
在镀膜过程中一边镀膜，一边用荷能离子束照射沉积的膜层粒子在基材表面不断受到来自离子源的荷能离子的轰击。
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2023-06
射频放电的利用
有利于溅射镀绝缘膜。电极极性的迅速变化可用于直接溅射绝缘靶材获得绝缘膜。如果采用直流电源溅射沉积绝缘膜时，绝缘膜会阻挡正离子进入阴极，形成正离子堆积层，易造成击穿打火。
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2023-06
用弧光放电源增强磁控溅射镀膜
磁控溅射镀膜在辉光放电中进行，放电的电流密度低，镀膜室内的等离子体密度低，使得磁控溅射技术有膜-基结合力低、金属离化率低、沉积速率低等缺点在磁控溅射镀膜机中增设弧光放电装置，可以利用弧光放电产生的弧光等离子体中的高密度电子流对工件进行清洗，还可以参与镀膜和进行辅助沉积。
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2023-06
低温离子化学热处理
1.传统化学热处理温度
常见的传统化学热处理工艺包括渗碳和渗氮，工艺温度依据Fe-C 相图、Fe-N相图确定。渗碳温度为930℃左右，渗氮温度为 560℃左右。离子渗碳和离子渗氮的温度也基本控制在这个温度范围。
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