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2023-03
CVD设备特点
CVD技术一般来说，具有如下一些特点:
1、设备的工艺操作都较简单、灵活性较强能制备出配比各异的单一或复合膜层和合金膜层；
2、CVD法的适用性较广泛，可制备各种金属或金属膜涂层；
3、因沉积速率可高达每分钟几微米到数百微米，因此生产效率高；
4、与PVD 法相比较绕射性好，非常适宜涂覆形状复杂的基体，如槽沟、涂孔甚至盲孔结构均可镀制成膜，涂层致密性好，由于成膜过程温度较高，膜基界面上的附着力很强，故膜层十分牢固
5、承受放射线辐射后的损伤较低，能与 MOS 集成电路工艺相融合。
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21
2023-03
真空镀膜机是做什么的？有什么作用？
所谓真空镀膜机工艺在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层，
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16
2023-03
真空离子镀膜机及其分类
真空离子镀膜机(简称离子镀)是1963年美国的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世纪 70年代得到快速发展的一种全新的表面处理技术。
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09
2023-03
光学镀膜机可镀制多种光学膜
①减反射膜。例如，照相机、幻灯机、投影仪、电影放映机、望远镜、瞄准镜以及各种光学仪器透镜和棱镜上所镀的单层 MgF薄膜，双层或多层的由 SiOFrO2、AlO、 TiO₂等薄膜组成的宽带减反射膜。
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