
DPC工艺解析:陶瓷基板精密镀膜的创新解决方案
在现代电子行业中,陶瓷基板作为一种重要的电子封装材料,广泛应用于功率半导体、LED照明、电源模块等领域。为了提高陶瓷基板的性能和可靠性,DPC(Direct Plating Copper)工艺作为一种高效、精确的镀膜技术,逐渐成为陶瓷基板生产中的核心工艺之一。
一、什么是DPC工艺?
DPC工艺,顾名思义,直接将铜金属镀覆到陶瓷基板表面,突破了传统陶瓷基板铜箔附着的技术局限。与传统的粘接技术相比,DPC工艺能够有效提高铜层与陶瓷基板之间的结合力,并且具有更高的生产效率与更优异的电性能。在DPC工艺中,铜镀层直接在陶瓷基板表面通过化学或电化学反应形成,这不仅能减少传统粘接过程中可能出现的剥离问题,还能实现更精确的电性能控制,满足越来越高的工业需求。
二、DPC工艺流程
DPC工艺流程大致可分为以下几个主要步骤,每一步都对成品的质量和性能至关重要。
1.激光钻孔
在陶瓷基板上根据设计要求,通过激光钻孔技术精准打孔。这一步骤保证了基板的孔洞位置和尺寸的精确性,便于后续的电镀和线路图形制作。
2.PVD镀膜
采用物理气相沉积(PVD)技术,在陶瓷基板表面镀上一层薄铜膜。PVD镀膜可以提高基板的电气性能和热导性,同时增加表面的附着力,保证后续电镀铜层的质量。
3.电镀加厚
在PVD镀膜基础上,通过电镀技术对铜层进行加厚。电镀铜的主要目的是增强铜层的耐用性和导电性,以满足高功率应用的要求。该步骤可以根据需要调整铜层的厚度。
4.线路图形
利用光刻和化学蚀刻工艺在铜层上制作精细的线路图形。这一步骤是实现电路功能的关键,确保电路的导电性和稳定性。
5.阻焊字符
在铜线路上应用阻焊层,保护非导电区域。阻焊层的涂覆可以防止电路发生短路,并增加基板的绝缘性能。
6.表面处理
对表面进行清洗、抛光或涂覆处理,确保基板表面光滑,去除任何可能影响性能的杂质。表面处理也有助于增强基板的抗腐蚀性。
7.激光成型
最后,通过激光成型技术进行细节加工,确保基板的形状和尺寸符合设计要求。激光成型能够提供高精度的加工,特别适用于复杂形状的内饰件和电子组件。
三、DPC工艺的优势
DPC镀膜工艺在陶瓷基板生产中有着明显的优势,主要体现在以下几个方面:
1.高结合力:
DPC工艺能够在陶瓷基板与铜层之间形成牢固的结合,大大提高了铜层的耐久性和抗剥离性。
2.优异的电性能:
镀铜后的陶瓷基板具有良好的电导性和热导性,能够有效提升电子元件的性能。
3.高精度控制:
DPC工艺能够精准控制铜层的厚度和质量,满足不同产品对电气性能和机械强度的严格要求。
4.环保性:
与传统的贴铜箔技术相比,DPC工艺在镀膜过程中无需使用大量的有害化学物质,更符合环保要求。
四、振华真空陶瓷基板镀膜解决方案
DPC卧式连续镀膜生产线
设备优势:
产线采用模块化设计
方便按需增减功能室
旋转靶小角度溅射
有利小孔径内沉积膜层(优化磁场方案实现通孔高效填充)
双面同时镀膜,优异的膜厚均匀性
应用范围:可制备多种单质金属膜层,如Ti,Cu,Al,Sn,Cr,Ag,Ni等,已广泛应用于半导体电子元器件,如:陶瓷基板、陶瓷电容、LED陶瓷支架等。
——本文由DPC铜沉积镀膜机厂家振华真空发布